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低溫等離子處理設(shè)備有什么作用呢?使用中又需要注意什么?

更新時(shí)間:2021-12-13瀏覽:1532次

  低溫等離子處理設(shè)備常應(yīng)用于惡臭氣體治理,具有處理效果好(幾乎可以處理目前常見的各種惡臭氣體)、運(yùn)行費(fèi)用低廉、無二次污染、運(yùn)行穩(wěn)定操作管理簡便即開即用等優(yōu)點(diǎn)。該技術(shù)可廣泛應(yīng)用于石油化工、制藥、食品、污水處理廠、涂料、皮革加工、感光材料、汽車制造等諸多行業(yè)有機(jī)廢氣的治理以及采用其它方法很難解決的廢氣的治理。低溫等離子體產(chǎn)生方式主要有兩種放電方式,分別是電暈形式和戒指阻擋形式。根據(jù)處理廢氣的濃度和所含污染物的類型來選擇合適的放電方式。
 
  隨著科技的進(jìn)步,低溫等離子處理設(shè)備在現(xiàn)代工業(yè)上高速發(fā)展,選擇它原因也很簡單,它的操作簡單、工作效率高、低成本、環(huán)保且去膠后表面光潔。那么,設(shè)備在使用中有哪些因素要注意?
 
  一、調(diào)整合適的頻率:頻率越高,氧越易電離構(gòu)成等離子體。頻率太高,以致電子振幅比其平均自由程還短,則電子與氣體分子磕碰概率反而減少,使電離率降低。
 
  二、調(diào)整合適功率:關(guān)于必定量的氣體,功率大,等離子體中的的活性粒子密度也大,去膠速度也快;但當(dāng)功率增大到必定值,反響所能耗費(fèi)的活性離子到達(dá)飽滿,功率再大,去膠速度則無顯著添加。由于功率大,基片溫度高,所以應(yīng)根據(jù)技術(shù)需求調(diào)理功率。
 
  三、調(diào)整適合的真空度:恰當(dāng)?shù)恼婵斩?,可使電子運(yùn)動(dòng)的平均自由程變大,因而從電場取得的能量就大,有利電離。別的當(dāng)氧氣流量必守時(shí),真空度越高,則氧的相對份額就大,發(fā)生的活性粒子濃度也就大。但若真空度過高,活性粒子濃度反而會減小。
 
  四、氧氣流量的調(diào)整:氧氣流量大,活性粒子密度大,去膠速率加速;但流量太大,則離子的復(fù)合概率增大,電子運(yùn)動(dòng)的平均自由程縮短,電離強(qiáng)度反而降低。若反響室壓力不變,流量增大,則被抽出的氣體量也添加,其間尚沒參與反響的活性粒子抽出量也隨之添加,因而流量添加對去膠速率的影響也就不甚顯著。
 
  關(guān)于低溫等離子處理設(shè)備的介紹就到這里了,希望這篇文章能對你有所幫助!

 

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