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低壓等離子設(shè)備的多面應(yīng)用

更新時(shí)間:2022-05-05瀏覽:1046次

低壓等離子體提供了非常多的表面改性方法。對臟污組件進(jìn)行精細(xì)清洗、對塑料件進(jìn)行等離子活化、對 PTFE、硅進(jìn)行蝕刻,以及對具有PTFE 類涂層的塑料件進(jìn)行涂覆,這些是其部分應(yīng)用用途。就此而言,低壓等離子體可應(yīng)用于各種不同的領(lǐng)域,在這些領(lǐng)域中對材料進(jìn)行鍵合或者有針對性地改變表面特性對其來說非常重要。

 

低壓等離子設(shè)備的應(yīng)用

 

材料清洗:等離子體技術(shù)可為所有類型的污染物、所有基材和所有后續(xù)處理提供解決方案。此外,還能分解由分子構(gòu)成的殘留污染物。

 

材料活化:表面具有良好的潤濕性,是確保在涂漆、粘接、印刷或者鍵合時(shí)與結(jié)合配偶體粘附的前提條件。

 

材料蝕刻:等離子體技術(shù)可用于各向異性和各向同性蝕刻。通過化學(xué)蝕刻進(jìn)行各向同性蝕刻,通過物理蝕刻進(jìn)行各向異性蝕刻。

 

材料涂覆:使用低壓等離子體,可以改良具有不同涂層的工件。為此,會將氣態(tài)和液態(tài)原材料輸送到真空腔室中。

 

 

Diener同時(shí)還是低壓等離子設(shè)備、等離子體高頻發(fā)生器和常壓等離子體生產(chǎn)領(lǐng)域的國際市場,diener技術(shù)極其成熟,而且取得了巨大的成功,從而保證了持續(xù)性擴(kuò)張。

 

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