簡要描述:relyon手持式等離子清洗機PZ3是一款小體積緊湊型手持等離子體發(fā)生器,適用于實驗室開發(fā)以及小批量產(chǎn)品的研發(fā)和組裝加工。piezobrush® PZ3的最大功耗為18瓦,憑借壓電直接放電技術(shù)(可以產(chǎn)生溫度低于50攝氏度的冷活性等離子體。
產(chǎn)品目錄
品牌 | 其他品牌 | 產(chǎn)地類別 | 進口 |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),電子,紡織皮革 | 供電電源 | AC110-240/50-60Hz |
最大功耗 | 18W | 重量 | 110g |
產(chǎn)品組成 | 手持式設(shè)備帶電源線,集成風(fēng)扇 | 音量 | 45dB |
加工處理速度 | 5cm2/s | 加工處理距離 | 2–10mm |
加工處理寬度 | 5–29mm |
relyon手持式等離子清洗機PZ3是一款小體積緊湊型手持等離子體發(fā)生器,適用于實驗室開發(fā)以及小批量產(chǎn)品的研發(fā)和組裝加工。piezobrush® PZ3的最大功耗為18瓦,憑借壓電直接放電技術(shù)(Piezoelectric Direct Discharge Technology – PDD技術(shù)®)可以產(chǎn)生溫度低于50攝氏度的冷活性等離子體。PZ3的核心部件是來自TDK電子集團的CeraPlas™,用來產(chǎn)生常壓冷活性等離子體的高壓放電組件。等離子體能高效加工活化材料表面,同時還可以殺菌消毒和祛除異味。
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應(yīng)用領(lǐng)域
》 接合技術(shù)
》 生產(chǎn)流程的開發(fā)和優(yōu)化
》 實驗室的研發(fā)設(shè)備
》 微生物、微流體以及食品生產(chǎn)
》 醫(yī)療和牙科技術(shù)
》 原型和樣品模型制造
》 小批量生產(chǎn)加工
潛在用途
》 各種基礎(chǔ)材料表面的活化加工處理
》 提高材料表面潤濕性
》 優(yōu)化黏合、噴漆、印刷以及涂層處理工藝
》 塑料、玻璃、陶瓷、金屬、半導(dǎo)體、天然纖維以及復(fù)合材料的表面加工處理
》 精細清潔
》 殺菌消毒和祛除異味
供電電源:AC110-240/50-60Hz
最大功耗:18W
重量:110g
產(chǎn)品組成:手持式設(shè)備帶電源線,集成風(fēng)扇
音量:45dB
等離子體溫度:不超過50℃
加工處理速度:5cm2/s
加工處理距離:2–10mm
加工處理寬度:5–29mm
為了取得加工處理效果,不同類型的材料表面需要使用相應(yīng)的模塊組件進行活化加工處理。我們目前為piezobrush®PZ3手持式等離子體發(fā)生器提供兩種不同的可替換模塊組件。
relyon手持式等離子清洗機PZ3所產(chǎn)生的冷活性等離子體是基于壓電直接放電技術(shù)(Piezoelectric Direct Discharge Technology – PDD技術(shù)®)中的高強度電場放電形成的。因此,待處理材料表面的電導(dǎo)率是選擇相應(yīng)可替換模塊組件的重要參考。
標(biāo)準(zhǔn)模塊 | 近場模塊 |
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標(biāo)準(zhǔn)模塊是專門為非導(dǎo)電材料(例如塑料、陶瓷以及玻璃等)表面加工處理設(shè)計的。為了獲得加工處理效果,推薦的使用距離為1–5毫米。如果加工材料表面產(chǎn)生不受控制的偏移或者翻轉(zhuǎn),等離子體加工設(shè)備將自動切斷電源并關(guān)閉。在這種情況下,材料表面將會部分導(dǎo)電,因此后續(xù)的加工處理請使用近場模塊進行操作。 | 近場模塊用于處理(部分)導(dǎo)電材料例如金屬、碳纖維強化聚合物、鉛玻璃以及導(dǎo)電塑料等。如果是帶有導(dǎo)電涂層的材料或是產(chǎn)品中帶有導(dǎo)電組件的情況下,也建議使用近場模塊以獲得最佳的加工處理效果。只有當(dāng)近場模塊足夠接近待處理的導(dǎo)電材料表面時(也可以穿透所覆蓋的薄絕緣涂層),才會激發(fā)點燃等離子體。當(dāng)距離在幾毫米的范圍內(nèi),近場模塊和待處理材料表面之間可以看見紫光,表明加工處理正在進行。 |
系統(tǒng)會自動識別當(dāng)前所使用的模塊類型,并相應(yīng)地調(diào)整加工處理參數(shù)。
液晶顯示
為了更好的控制等離子體的各種加工處理過程,piezobrush® PZ3配備了一塊液晶顯示屏用來顯示和調(diào)用各種不同的功能:
過程控制:
》 秒表:用來測量時間
》 定時器:具有自動結(jié)束功能的定時功能
》 節(jié)拍器:在設(shè)定的加工處理間隔以后,會給予聲音反饋
功耗設(shè)置:多級可調(diào)的等離子體功率
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